Équipement de laboratoire 5n/6n 99,999% Si de haute pureté à pulvérisation de silicium

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Les cibles de pulvérisation au silicium sont un type de matériau utilisé dans le processus de pulvérisation, qui est utilisé pour déposer des films minces de matériaux sur un substrat.La pulvérisation est un procédé par lequel des atomes du matériau cible sont éjectés et déposés sur un substrat, créant un film mince.

Les cibles de pulvérisation au silicium sont fabriquées à partir de silicium de haute pureté et sont utilisées dans une variété d'applications, notamment la fabrication de semi-conducteurs, la production de cellules solaires et la microélectronique.Certaines des caractéristiques et des applications des cibles de pulvérisation au silicium comprennent:

Haute pureté: Les cibles de pulvérisation au silicium sont fabriquées à partir de silicium de haute pureté, ce qui les rend appropriées pour les applications de semi-conducteurs et de microélectronique.

Bonne conductivité thermique: Le silicium a une bonne conductivité thermique, ce qui le rend utile pour les applications nécessitant une dissipation thermique efficace.

Faible rendement de pulvérisation: le silicium a un faible rendement de pulvérisation, ce qui en fait un bon choix pour les applications nécessitant un contrôle précis de l'épaisseur du film.

Point de fusion élevé: Le silicium a un point de fusion élevé, ce qui en fait un choix idéal pour les applications nécessitant une résistance à haute température.

Propriétés photoélectriques: Le silicium possède des propriétés photoélectriques, ce qui en fait un choix populaire pour la production de cellules solaires.

Dans l'ensemble, les cibles de pulvérisation au silicium sont un matériau de haute qualité qui convient à un large éventail d'applications nécessitant un matériau très stable, thermiquement conducteur et photoélectrique.